现代半导体制造中质量控制和评价的关键技术研究 10月04日
【摘要】如今,在半导体和集成电路制造领域,随着工艺过程、技术和设备的日益复杂,电子元器件产品自身功能的不断完善,以及客户对工艺水平及产品质量要求的不断提高,使得生产过程质量控制和评价技术显得日益重要。同时,越来越多的国内企业为了向国际型企业标准迈进,开始重视质量控制与工艺评价技术。因此,全面实施工艺质量控制与评价技术具有重要意义。本论文以半导体生产过程中多品种小批量生产过程及多变量生产工艺为主要研 […]
利用ATLAS探测器测量单顶夸克与W玻色子伴随产生过程的截面 07月26日
【摘要】长久以来,人们一直在努力探索和理解物质世界的基本组成。在二十世纪六七十年代,物理学家们发展了标准模型理论,成功地解释了组成物质世界的基本粒子与它们之间的基本相互作用。标准模型不仅被大量的精确测量所证实,还做出了无数正确的预言。顶夸克是标准模型中质量最大的基本粒子,于1995年在费米实验室的Tevatron对撞机上被发现,顶夸克的发现巩固了标准模型三代夸克的结构。单顶夸克是通过弱相互作用产生 […]