基于硅通孔(TSV)的三维集成电路(3D IC)关键特性分析 10月05日
【摘要】过去的几十年里,微电子器件尺寸按照摩尔定律持续减小,电子产品性能得到空前提高。但是在半导体制作工艺尺寸缩小到深亚微米量级后,工艺技术逐渐达到物理极限,量子效应、短沟道效应等小尺寸效应越来越凸显,成为摩尔定律继续发展的瓶颈。三维集成电路(Three-DimensionalIntegratedCircuit,3DIC)不再一味追求小尺寸,而是采用三维堆叠的方式来提高系统集成度,通过硅通孔(Th […]
【摘要】过去的几十年里,微电子器件尺寸按照摩尔定律持续减小,电子产品性能得到空前提高。但是在半导体制作工艺尺寸缩小到深亚微米量级后,工艺技术逐渐达到物理极限,量子效应、短沟道效应等小尺寸效应越来越凸显,成为摩尔定律继续发展的瓶颈。三维集成电路(Three-DimensionalIntegratedCircuit,3DIC)不再一味追求小尺寸,而是采用三维堆叠的方式来提高系统集成度,通过硅通孔(Th […]