【摘要】本研究用NaOH-NaClO3碱性腐蚀液制备冶金多晶硅表面织构,研究腐蚀液的配比、腐蚀温度和时间等因素对表面织构的影响。经过大量的对比实验,得到用NaOH-NaClO3体系腐蚀制备的多晶硅表面织构的最佳工艺条件：温度80℃,溶液配比NaClO3:NaOH-7:1(wt%),腐蚀40秒。腐蚀得到的表面织构呈类金字塔结构,织构分布均匀致密,可起到良好的减反射作用。冶金多晶硅表面的反射率测试给出 […]