【摘要】随着工业技术的发展,离子源已广泛应用于微细加工的离子束刻蚀技术、材料表面改性的离子注入以及光学薄膜制备中的离子束辅助镀膜等技术,因此,准确控制离子束能量是获得光学精密加工和高质量薄膜的一项重要技术指标。本课题主要进行了离子能量分析仪的研制、测试及其稳定性等研究工作。首先,根据等离子体基本特性、静电学理论推导出了离子能量分析仪中栅网之间的间距。其次,利用Simion静电透镜模拟软件计算了不同 […]