【摘要】等离子体增强化学气相沉积(PlasmaEnhancedChemicalVaporDeposition,简称PECVD)是借助于辉光放电等离子体使含有薄膜组成的气态物质发生化学反应,从而实现薄膜材料生长的一种制备技术。通过控制薄膜制备工艺参数的变化,从而获得各个其对制备不同折射率光学薄膜厚度均匀性的影响趋势。研究PECVD制备光学薄膜均匀性控制技术,明确光学薄膜制备过程中均匀性的控制方法,对 […]

【摘要】等离子体增强化学气相沉积(Plasma-EnhancedChemicalVaporDeposition,简称PECVD)技术制备光学薄膜有其独特的优点,通过控制薄膜制备工艺参数变化可以获得不同折射率的光学薄膜,且所制备的光学薄膜物理特性优良。研究PECVD技术制备光学薄膜的折射率控制技术,明确制造过程中光学薄膜折射率控制方法和精度,有助于采用PECVD技术制备渐变折射率等特种精密光学薄膜。 […]